Кристальное производство
- Линия 100:
Уровень:
- КНС и карбидокремниевые пластины диаметром 100 мм,
- 1,2 мкм,
- 2 металла,
- 48 тыс. пл/год
Технологии:
- Действующие: КНС
- Развиваемые: Карбид кремния
- Линия 150:
Уровень:
- кремниевые, КНС и КНИ пластины диаметром 150 мм,
- 0,6 мкм,
- 2 металла,
- 96 тыс. пл/год.
Технологии:
- Действующие: КМОП, EEPROM, КМОП РС, КНС, БиКМОП, ДМОП, IGBT, МРД,
- Развиваемые: МЭМС, ИК-видение, БиКДМОП
- Линия 200:
Уровень:
- кремниевые и КНИ пластины диаметром 200 мм,
- 0,25-0,35 мкм,
- 4 металла,
- 48 тыс. пл/год.
Технологии:
- Создаваемые: КМОП РС, КНИ, БиДКМОП, FRAM, СВЧ LD-MOS, Trench ДМОП, Trench IGBT
